中国半导体行业对进口依赖的主要领域
一、核心制造设备光刻机 - 高端光刻机(如极紫外光刻机EUV)几乎完全依赖荷兰ASML公司,其垄断了全球先进制程芯片制造所需的光刻技术。
- 日本佳能、尼康在中低端光刻机领域也有技术优势,中国部分设备需从日企进口。
离子注入机 - 79%的离子注入机从美国进口,主要用于芯片掺杂工艺。
刻蚀机与热处理设备 - 刻蚀机、热处理设备等高度依赖日本供应商,日本在相关设备的市场份额和技术积累上占据主导地位。
二、关键材料大尺寸硅片 - 12英寸硅片(晶圆制造核心材料)仍大部分依赖进口,2023年全球硅片市场规模达124亿美元,中国自给率低,供需矛盾突出。
光刻胶 - 高端光刻胶自给率不足10%,日本企业占据全球75.9%的市场份额,尤其在高端领域垄断超96.7%。若断供,中国芯片产业将面临重大挑战。
光掩膜基板 - 光掩膜基板是显示面板和芯片制造的关键器具,日本企业垄断了96.7%的市场份额,中国严重依赖进口。
三、核心技术- EUV光刻技术:荷兰ASML完全垄断EUV光刻机供应,中国目前无法自主生产此类设备,相关技术受制于国际出口管制。
四、供应链风险- 日本、荷兰、美国等国的技术封锁和出口限制,使中国在设备、材料、技术三方面面临“卡脖子”风险,若关键环节断供,可能直接影响半导体产业链安全。
以上依赖进口的领域反映了中国半导体产业在高端设备、核心材料及尖端技术上的短板,需通过国产替代和技术突破逐步缓解供应链风险。 |