氧化退火 今日: 0|主题: 3|排名: 62 

氧化（Oxidation）是将硅片放置于氧气或水汽等氧化剂的氛围中进行高温热处理，在硅片表面发生化学反应形成氧化膜的过程，是集成电路工艺中应用较广泛的基础工艺之一。
退火（Anneal）也叫热退火，集成电路工艺中所有在氮气等不活泼气体中进行热处理的过程都可称为退火，其作用主要是消除晶格缺陷和消除硅结构的晶格损伤。