‌常见镀膜材料折射率分类与数据全表

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‌常见镀膜材料折射率分类与数据全表‌

‌——按材料类别、波长范围及特性整理‌

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‌1. 氧化物类镀膜材料‌

‌材料（化学式）‌	‌折射率（n）‌	‌适用波长范围‌	‌特性与应用‌
‌二氧化硅（SiO₂）‌	1.45–1.49	200–2000 nm	低折射率，抗反射层、钝化保护
‌二氧化钛（TiO₂）‌	2.3–2.6（可见光）	400–800 nm	高折射率，高反射镜、干涉滤光片
‌氧化铝（Al₂O₃）‌	1.63–1.76	紫外–红外	耐高温，激光器件保护膜
‌氧化铪（HfO₂）‌	1.9–2.1（可见光）	250–800 nm	高介电常数，紫外激光镀膜
‌氧化钽（Ta₂O₅）‌	2.1–2.3（550 nm）	400–2000 nm	高折射率、低吸收，光波导器件

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‌2. 氟化物类镀膜材料‌

‌材料（化学式）‌	‌折射率（n）‌	‌适用波长范围‌	‌特性与应用‌
‌氟化镁（MgF₂）‌	1.38–1.39	200–7000 nm	超低折射率，宽光谱抗反射膜
‌氟化钙（CaF₂）‌	1.43–1.50	150 nm–10 μm	深紫外透光，激光窗口镀膜
‌氟化镧（LaF₃）‌	1.59–1.62（可见光）	紫外–红外	高激光损伤阈值，红外光学元件
‌氟化钇（YF₃）‌	1.49–1.53（500 nm）	200–2000 nm	低应力薄膜，紫外滤光片

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‌3. 硫化物与硒化物‌

‌材料（化学式）‌	‌折射率（n）‌	‌适用波长范围‌	‌特性与应用‌
‌硫化锌（ZnS）‌	2.2–2.4	400 nm–14 μm	红外窗口、激光防护膜
‌硒化锌（ZnSe）‌	2.4–2.6（红外）	600 nm–20 μm	高红外透过率，CO₂激光器镀膜
‌硫化铅（PbS）‌	4.1–4.3（红外）	1–3 μm	高折射率，红外探测器增透膜

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‌4. 氮化物与碳化物‌

‌材料（化学式）‌	‌折射率（n）‌	‌适用波长范围‌	‌特性与应用‌
‌氮化硅（Si₃N₄）‌	1.9–2.1	300–1100 nm	CMOS器件钝化、光波导
‌氮化铝（AlN）‌	2.0–2.2（可见光）	200–5000 nm	高热导率，紫外LED封装
‌碳化硅（SiC）‌	2.6–2.8（可见光）	400–6000 nm	耐高温耐腐蚀，极端环境光学元件

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‌5. 金属与复合薄膜‌

‌材料（化学式）‌	‌折射率（n）‌	‌适用波长范围‌	‌特性与应用‌
‌铝（Al）‌	0.13–1.37（可见光）	全波段	高反射率，但易氧化需保护层
‌银（Ag）‌	0.05–0.15（可见光）	全波段	超低红外损耗，需搭配保护膜使用
‌金（Au）‌	0.18–0.36（近红外）	500 nm–20 μm	红外反射镜，生物传感器镀膜
‌ITO（铟锡氧化物）‌	1.8–2.1（可见光）	400–1500 nm	透明导电膜，光电探测器电极

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‌6. 高分子与新型材料‌

‌材料（化学式）‌	‌折射率（n）‌	‌适用波长范围‌	‌特性与应用‌
‌PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）‌	1.49–1.50	400–800 nm	低成本柔性镀膜，光学胶水
‌PDMS（聚二甲基硅氧烷）‌	1.41–1.43	可见光–近红外	生物兼容性，微流控芯片镀膜
‌黑磷（BP）‌	3.5–4.0（红外）	2–5 μm	各向异性高折射率，新型红外光学器件
‌二氧化钒（VO₂）‌	1.5–3.0（相变调控）	近红外	温控智能镀膜，动态光学器件

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‌关键说明‌

• ‌折射率色散‌：所有材料的折射率均随波长变化（如TiO₂在400 nm时n≈2.6，800 nm时n≈2.3），需通过柯西公式或Sellmeier方程计算具体波长下的n值。
• ‌工艺影响‌：沉积方法（PVD/CVD/ALD）、基底温度、气体环境等均会导致折射率波动（±0.05范围内）。
• ‌数据来源‌：参考权威数据库RefractiveIndex.INFO及《光学薄膜技术手册》。