薄膜沉积 今日: 0|主题: 4|排名: 60 

PECVD（等离子体增强化学气相沉积）设备是一种工艺试验仪器，广泛应用于电子与通信技术、动力与电气工程、能源科学技术、计算机科学技术、材料科学、化学工程等领域。这些设备通过等离子体增强化学气相沉积技术，在基片上沉积出期望的薄膜，如高质量的SiNx、SiO2和α-Si等薄膜。PECVD技术利用射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，由于等离子体具有很高的化学活性，容易发生反应，从而在基片上形成所需的薄膜。