腔面镀膜设备工作原理
腔面镀膜设备的工作原理主要包括物理蒸发镀膜、化学气相沉积和物理气相沉积等方法。物理蒸发镀膜是通过将原料加热至其蒸发温度，使蒸汽在基材表面冷凝成薄膜。这种方法包括加热靶材，使其表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，然后沉降在基片表面，通过成膜过程（散点-岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。
化学气相沉积是通过将气体或气体混合物引入反应室，通过化学反应在基材表面沉积出薄膜。
物理气相沉积则是通过离子轰击或原子束轰击的方式将原料蒸发后的粒子沉积在基材表面形成薄膜。这种方法可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
腔面镀膜设备的应用非常广泛，特别是在光学领域，通过在光学元件上涂镀薄膜来改变元件对入射光线的反射率和透过率。为了减少元件表面的反射损失、提高成像质量，往往涂镀多层薄膜。光学元件镀膜后，光在多层膜层的表面进行多次反射和透射，形成多光束干涉，通过控制膜层的厚度和折射率，可以得到不同的强度分布，满足更加复杂的需求。例如，可以制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。
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