常见镀膜材料折射率分类与数据全表
常见镀膜材料折射率分类与数据全表——按材料类别、波长范围及特性整理1. 氧化物类镀膜材料材料（化学式）折射率（n）适用波长范围特性与应用
二氧化硅（SiO₂）1.45–1.49200–2000 nm低折射率，抗反射层、钝化保护
二氧化钛（TiO₂）2.3–2.6（可见光）400–800 nm高折射率，高反射镜、干涉滤光片
氧化铝（Al₂O₃）1.63–1.76紫外–红外耐高温，激光器件保护膜
氧化铪（HfO₂）1.9–2.1（可见光）250–800 nm高介电常数，紫外激光镀膜
氧化钽（Ta₂O₅）2.1–2.3（550 nm）400–2000 nm高折射率、低吸收，光波导器件
2. 氟化物类镀膜材料
材料（化学式）折射率（n）适用波长范围特性与应用
氟化镁（MgF₂）1.38–1.39200–7000 nm超低折射率，宽光谱抗反射膜
氟化钙（CaF₂）1.43–1.50150 nm–10 μm深紫外透光，激光窗口镀膜
氟化镧（LaF₃）1.59–1.62（可见光）紫外–红外高激光损伤阈值，红外光学元件
氟化钇（YF₃）1.49–1.53（500 nm）200–2000 nm低应力薄膜，紫外滤光片
3. 硫化物与硒化物
材料（化学式）折射率（n）适用波长范围特性与应用
硫化锌（ZnS）2.2–2.4400 nm–14 μm红外窗口、激光防护膜
硒化锌（ZnSe）2.4–2.6（红外）600 nm–20 μm高红外透过率，CO₂激光器镀膜
硫化铅（PbS）4.1–4.3（红外）1–3 μm高折射率，红外探测器增透膜
4. 氮化物与碳化物
材料（化学式）折射率（n）适用波长范围特性与应用
氮化硅（Si₃N₄）1.9–2.1300–1100 nmCMOS器件钝化、光波导
氮化铝（AlN）2.0–2.2（可见光）200–5000 nm高热导率，紫外LED封装
碳化硅（SiC）2.6–2.8（可见光）400–6000 nm耐高温耐腐蚀，极端环境光学元件
5. 金属与复合薄膜
材料（化学式）折射率（n）适用波长范围特性与应用
铝（Al）0.13–1.37（可见光）全波段高反射率，但易氧化需保护层
银（Ag）0.05–0.15（可见光）全波段超低红外损耗，需搭配保护膜使用
金（Au）0.18–0.36（近红外）500 nm–20 μm红外反射镜，生物传感器镀膜
ITO（铟锡氧化物）1.8–2.1（可见光）400–1500 nm透明导电膜，光电探测器电极
6. 高分子与新型材料
材料（化学式）折射率（n）适用波长范围特性与应用
PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）1.49–1.50400–800 nm低成本柔性镀膜，光学胶水
PDMS（聚二甲基硅氧烷）1.41–1.43可见光–近红外生物兼容性，微流控芯片镀膜
黑磷（BP）3.5–4.0（红外）2–5 μm各向异性高折射率，新型红外光学器件
二氧化钒（VO₂）1.5–3.0（相变调控）近红外温控智能镀膜，动态光学器件
关键说明
[*]折射率色散：所有材料的折射率均随波长变化（如TiO₂在400 nm时n≈2.6，800 nm时n≈2.3），需通过柯西公式或Sellmeier方程计算具体波长下的n值。
[*]工艺影响：沉积方法（PVD/CVD/ALD）、基底温度、气体环境等均会导致折射率波动（±0.05范围内）。
[*]数据来源：参考权威数据库RefractiveIndex.INFO及《光学薄膜技术手册》。
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