wafer上的缺角notch的尺寸精度对芯片制造有何影响？
影响晶向确定精度notch 的尺寸精度与晶向确定的准确性紧密相连。一旦 notch 尺寸出现较大误差，工艺人员极有可能对晶向判断失误。在光刻这类对晶向精度要求近乎苛刻的工艺里，晶向判断的偏差会直接导致光刻图案与晶圆晶向无法匹配。如此一来，芯片内部的晶体管等关键器件，其性能与连接都会受到波及，进而引发芯片功能异常，或是性能显著下降。图片来源于网络
举个例子，在先进制程工艺中，晶体管的沟道方向必须与晶圆晶向严格对齐，才能确保载流子迁移率达到最佳状态。要是 notch 尺寸精度欠佳，致使晶向判断出错，晶体管沟道方向就可能出现偏差，这会让载流子迁移率大幅降低，最终导致芯片运行速度放缓，功耗却大幅增加。
1、干扰定位与对准精度光刻、蚀刻等芯片制造工艺，设备主要依靠 notch 来实现晶圆的精准定位与对准。倘若 notch 尺寸精度不足，设备定位系统就会产生误差，无法将晶圆准确无误地放置到预定位置，更难以保障各层光刻图案之间实现高精度对准。
以多层光刻工艺为例，相邻两层图案的对准精度要求达到纳米级。要是 notch 尺寸存在偏差，第二层光刻图案便极有可能无法与第一层准确对准，使得芯片内部电路连接出错，芯片无法正常工作，进而导致芯片良品率严重下滑。
3. 影响芯片尺寸和布局notch 的尺寸精度，直接关系到晶圆边缘可利用空间的大小。要是 notch 尺寸过大，或者精度超出允许范围，就会占据过多晶圆边缘面积，使得可用于制造芯片的有效面积大幅减少，不仅降低了晶圆利用率，还会显著增加芯片制造成本。
同时，notch 尺寸的不确定性，也会给芯片布局设计带来诸多难题。设计人员需要依据 notch 的位置和尺寸，来规划芯片周边的电路与封装区域。一旦 notch 尺寸精度较低，设计难度与风险都会大幅增加，可能引发芯片封装难度提升，或是芯片整体尺寸变大等问题。
4. 导致质量检测误差在芯片制造的质量检测环节，notch 常常被当作参考基准，用于检查晶圆的完整性、边缘质量，以及判断芯片制造工艺是否符合标准。若 notch 尺寸精度不够，检测设备获取的测量数据就会不准确，难以准确判断晶圆和芯片是否存在缺陷。
例如，在检测晶圆边缘的平整度和缺陷时，通常以 notch 为基准进行测量。要是 notch 尺寸存在偏差，很可能将原本合格的边缘区域误判为有缺陷，或者忽略掉因 notch 尺寸问题导致的实际缺陷，这会严重影响对芯片质量的准确评估，可能使不良品流入后续工序。
5. 影响生产效率和成本notch 尺寸精度问题，极有可能引发制造过程中多次出现定位错误、图案对准不良等状况。这就需要对晶圆进行重新加工，或者调整工艺参数，从而大幅增加制造流程的复杂性，延长时间成本，导致生产效率降低。
与此同时，良品率的降低与生产效率的下滑，还会使芯片制造成本大幅攀升，涵盖原材料浪费、设备占用时间增加，以及人力成本上升等多个方面。
notch在wafer上可指示晶向、识别掺杂类型、精确定位、提高面积利用率、便于自动化生产及质量检测追溯，确保芯片性能、提高生产效率和良品率。
[*]指示晶向：硅晶圆由单晶硅锭切片制成，晶向对半导体器件性能和加工工艺至关重要。notch 可指示硅晶圆的晶向，如 <100>、<110>、<111 > 等，让工艺人员快速确定晶圆晶向，指导后续加工操作，确保不同晶向的晶圆在光刻、蚀刻等工艺中能按正确方向进行处理，保证芯片性能和功能的一致性。
[*]识别掺杂类型：半导体制造中，硅晶圆通过掺杂不同元素形成 P 型或 N 型导电类型。notch 与平边类似，可与特定的标识规则相结合，帮助识别晶圆的掺杂类型，避免在器件制造中使用错误类型的晶圆。
[*]精确定位与对准1：在光刻、蚀刻、镀膜等制造工艺中，需要精确定位晶圆方向，确保各步工艺的图案和结构准确对齐。notch 为设备提供了精确的定位参考点，自动化设备通过识别 notch，能快速、准确地将晶圆放置到预定位置，保证工艺的精度和重复性，提高芯片制造的良品率。
[*]提高有效面积利用率：对于 8 英寸及以上的大尺寸晶圆，使用 notch 可在满足标识功能的同时，最大限度地提高晶圆的有效面积利用率。notch 只在晶圆边缘留很小的凹槽，相比平边占用面积大幅减少，有助于在有限的晶圆面积上制造更多的芯片，降低成本，提高生产效率。
[*]便于自动化生产1：notch 使自动化设备更容易识别和处理晶圆，便于在整个制造过程中实现自动化的搬运、定位和加工操作，减少人为干预和误差，提高生产效率和产品质量的稳定性，符合现代半导体制造高度自动化的发展需求。
[*]质量检测与追溯：在质量检测环节，notch 可作为一个固定的参考特征，用于检查晶圆的完整性、边缘质量等。同时，notch 的位置和状态也可以作为追溯的标识，帮助确定晶圆在生产过程中的批次、工艺参数等信息，便于在出现问题时进行追溯和分析。
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