光刻板透光率
光刻板的透光率是指光线透过光刻板的能力，即透过透明或半透明体的光通量与其入射光通量的百分率。透光率的数值范围为0~100%，如果光被介质全部吸收，透光率为0；如果光全部透过，透光率为100%。光刻板透光率的重要性
在半导体制造中，光刻板是光刻工艺的关键组成部分。光刻板上的图案通过光刻机照射到晶圆上，形成所需的电路图案。透光率的高低直接影响光刻的精度和效率：
[*]高透光率可以提高光刻的分辨率和成像质量，减少因光线吸收造成的图像失真。
[*]低透光率会导致光线在传输过程中损失较多，影响图案的清晰度和精度。
光刻板透光率的影响因素
光刻板的透光率受多种因素影响，包括材料的性质、厚度、表面处理等：
[*]材料选择：选择对极紫外（EUV）光透明的材料是提高透光率的关键。目前，EUV薄膜的透光率已达到90%，但仍有提升空间。
[*]薄膜厚度：薄膜的厚度直接影响光的吸收和透射。较薄的薄膜可以减少光的吸收，提高透光率。
[*]表面处理：光滑的表面可以减少光的散射和反射，从而提高透光率。
光刻板透光率的测量方法
透光率的测量通常使用分光光度计进行，通过测量光线在通过材料前后的强度变化来计算透光率。具体步骤包括：
[*]将分光光度计的光源对准样品，测量入射光的强度。
[*]测量透过样品后的出射光的强度。
[*]根据公式 T=ItIiT=IiIt 计算透光率 TT，其中 ItIt 是出射光的强度，IiIi 是入射光的强度。
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